特許
J-GLOBAL ID:200903036346536179

ファイバ損傷モニタを備えたレーザ加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-073605
公開番号(公開出願番号):特開平8-267261
出願日: 1995年03月30日
公開日(公表日): 1996年10月15日
要約:
【要約】【目的】 出射光学系内への反射レーザ光による光ファイバ出射端面の損傷を防止するためのファイバ損傷モニタを備えたレーザ加工装置を提供すること。【構成】 被加工部で反射されて出射光学系内に戻ってきたレーザ光のエネルギを検出するエネルギモニタ31と、このエネルギモニタの検出値をあらかじめ定められた上限値と比較して前記検出値が前記上限値を越えると異常検出信号を出力する比較器33とを含むファイバ損傷モニタを備えた。
請求項(抜粋):
レーザ光源からのレーザ光を光ファイバを通して出射光学系に導き、該出射光学系から被加工部にレーザ照射して加工を行うレーザ加工装置において、前記被加工部で反射されて前記出射光学系内に戻ってきたレーザ光のエネルギを検出する第1のモニタと、該第1のモニタの第1の検出値をあらかじめ定められた第1の上限値と比較して前記第1の検出値が前記第1の上限値を越えると第1の異常検出信号を出力する第1の比較器とを含むファイバ損傷モニタを備えたレーザ加工装置。
IPC (3件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/02 ,  B23K 26/08
FI (3件):
B23K 26/00 Q ,  B23K 26/02 C ,  B23K 26/08 K
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭62-207594
  • 特開昭62-275592

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