特許
J-GLOBAL ID:200903036358467679
ポリブチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレートの製造方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-175361
公開番号(公開出願番号):特開平8-041182
出願日: 1994年07月27日
公開日(公表日): 1996年02月13日
要約:
【要約】【構成】 X線吸収微細構造解析(XAFS)のX線近吸収端構造(XANES)のスペクトルにおいて、バックグラウンドを差し引いた後、1階微分したとき、チタンのK吸収端に相当する4.98keV付近の分裂ピークの高エネルギー側ピーク強度(4.983keV付近)に対する低エネルギー側ピーク強度(4.978keV付近)の比が1を越える状態のチタンを有し、かつ末端ビニル基が8eq/トン未満で、固有粘度IV≧0.6であるポリブチレンテレフタレート。【効果】 耐加水分解性や熱安定性に優れ、高湿度下や高温度下で使用される電気・電子材料や、自動車部品等に好適である。又、固相重合性に優れ、更に、固相重合後の色調変化が少ないため、固相重合を長時間行うことにより、低ガス化や低オリゴマー化を図ることも可能である。
請求項(抜粋):
X線吸収微細構造解析(XAFS)のX線近吸収端構造(XANES)のスペクトルにおいて、バックグラウンドを差し引いた後、1階微分したとき、チタンのK吸収端に相当する4.98keV付近の分裂ピークの高エネルギー側ピーク強度(4.983keV付近)に対する低エネルギー側ピーク強度(4.978keV付近)の比が1を越える状態のチタンを有し、かつ末端ビニル基が8eq/トン未満で、固有粘度IV≧0.6であることを特徴とするポリブチレンテレフタレート。
IPC (2件):
C08G 63/183 NMZ
, C08G 63/80 NML
前のページに戻る