特許
J-GLOBAL ID:200903036364344040

フォトマスクおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-135844
公開番号(公開出願番号):特開平8-006234
出願日: 1994年06月17日
公開日(公表日): 1996年01月12日
要約:
【要約】【目的】 フォトマスクにおいて、パターン形成後のブラシ洗浄工程におけるパターン欠損を防止して、異物の発生およびパターン欠陥を低減する。【構成】 硝子基板1上に形成した遮光膜2をレジストパターン7をマスクとして異方性ドライエッチングし、その後遮光膜2とレジスト7とをほぼ同じエッチングレートでエッチングすることにより、上端部が面取りされテーパ状の遮光膜2のパターンを形成する。
請求項(抜粋):
硝子基板上に遮光凸パターンを有するフォトマスクにおいて、上記遮光凸パターンの上端部が面取りされ、テーパ状に形成されたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件):
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭61-013621

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