特許
J-GLOBAL ID：200903036364344040
フォトマスクおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-135844
公開番号（公開出願番号）：特開平8-006234
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスクにおいて、パターン形成後のブラシ洗浄工程におけるパターン欠損を防止して、異物の発生およびパターン欠陥を低減する。【構成】 硝子基板1上に形成した遮光膜2をレジストパターン7をマスクとして異方性ドライエッチングし、その後遮光膜2とレジスト7とをほぼ同じエッチングレートでエッチングすることにより、上端部が面取りされテーパ状の遮光膜2のパターンを形成する。
請求項（抜粋）：
硝子基板上に遮光凸パターンを有するフォトマスクにおいて、上記遮光凸パターンの上端部が面取りされ、テーパ状に形成されたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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