特許

J-GLOBAL ID：200903036365936889

位置合わせ方法及び露光装置

発明者： 北野 博 ,  小板橋 英樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256579
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106923
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 露光プロセスが進んだ感光基板のアライメント信号を、マスクのアライメント信号と同程度の強度で検出することのできる位置合わせ方法を提供する。【解決手段】 得られる信号強度の異る数種類のマスクアライメントマーク31x〜35x,31y〜35yの集合体をあらかじめ用意し、露光プロセスの状況に応じたマスクアライメントマークを選択的に使用する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたマスクアライメントマークを検出してマスクを位置合わせする位置合わせ方法において、前記マスクアライメントマークは得られる信号強度が各々異なる複数のマークを含み、前記複数のマークのうち所定の信号強度が得られるマークを選択して用いることを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 525 E ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H