特許

J-GLOBAL ID：200903036367330791

基板保持装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 川畑 奉代 ,  高林 幸夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-239138
公開番号（公開出願番号）：特開2003-051535
出願日： 2001年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 リフトピンが水平方向に移動するため貫通穴が大きい場合であっても、大気開放しているリフトピン用の貫通穴からウエハ吸着領域への空気漏れを防ぐことができる。【解決手段】 本発明の基板保持装置は、負圧を利用して基板を保持する保持面(14)を有する基板保持部(11)と、該基板保持部に対して昇降方向および該保持面と平行な方向に相対的に移動可能なリフトピン(21)と、該リフトピンと該基板保持部との間をシールするシール機構(31)とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

負圧を利用して基板を保持する保持面を有する基板保持部と、該基板保持部に対して昇降方向および該保持面と平行な方向に相対的に移動可能なリフトピンと、該リフトピンと該基板保持部との間をシールするシール機構とを有することを特徴とする基板保持装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 622

FI (3件)：

H01L 21/68 P ,  H01L 21/304 622 H ,  H01L 21/30 503 C

Fターム (12件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA05 ,  5F031PA14 ,  5F031PA18 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11