特許
J-GLOBAL ID:200903036388545348

電子放出素子、電子源基板および表示パネルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 哲也 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-042223
公開番号(公開出願番号):特開平9-213210
出願日: 1996年02月06日
公開日(公表日): 1997年08月15日
要約:
【要約】【課題】 導電性薄膜の形状の再現性を向上し、素子特性のばらつきのない均一な表面伝導型電子放出素子を提供することにある。【技術手段】 絶縁性基板1上に、一対の素子電極2,3を形成し、その素子電極間を接続する導電性薄膜4を形成し、その導電性薄膜に電子放出部5を形成する電子放出素子の製造方法において、前記導電性薄膜を形成する際、前記素子電極を形成された前記絶縁性基板を該素子電極の配列方向に傾けた状態で前記一対の素子電極間に導電膜を形成する材料を含む溶液を液滴の状態で付与する。
請求項(抜粋):
絶縁性基板上に、一対の素子電極を形成し、その素子電極間を接続する導電性薄膜を形成し、その導電性薄膜に電子放出部を形成する電子放出素子の製造方法において、前記導電性薄膜を形成する工程は、前記素子電極を形成された前記絶縁性基板を該素子電極の配列方向に傾けた状態で前記一対の素子電極間に導電膜を形成する材料を含む溶液を液滴の状態で付与する工程を含むことを特徴とする電子放出素子の製造方法。

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