特許
J-GLOBAL ID：200903036392072543
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-285738
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122526
出願日： 1993年10月21日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウェハ5表面上の有機物を該半導体ウェハ5表面に悪影響を及ぼすことなく除去する。【構成】 洗浄槽3内の洗浄液2に対して紫外線を照射する光源4を設ける。
請求項（抜粋）：
洗浄液を貯める洗浄槽と、上記洗浄槽内の洗浄液に対して紫外線を照射する紫外線光源と、を有することを特徴とする洗浄装置
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
