特許
J-GLOBAL ID：200903036395157400
真空外囲器の製造方法及び製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-200218
公開番号（公開出願番号）：特開2003-016939
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：
【要約】【課題】高真空状態を維持した真空外囲器を製造可能なよる真空外囲器の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】真空槽内に第1部材10および第2部材12を配置した後、真空槽内を真空排気する。第1部材内面の所定領域をカバ-部材21により覆った状態で、カバ-部材内面に向けてゲッタを飛散させカバ-部材内面にゲッタ膜を形成し真空槽内を二次排気を行う。そして、二次排気をしながら、第1部材の所定領域に向けてゲッタを飛散させ、第1部材の所定領域にゲッタ膜を形成した後、第1部材および第2部材を互いに接合する。
請求項（抜粋）：
第1部材および第2部材を接合して真空外囲器を製造する真空外囲器の製造方法において、真空槽内に第1部材および第2部材を配置し、真空槽内を真空排気し、第1部材内面の所定領域をカバ-部材により覆った状態で、上記カバ-部材内面に向けてゲッタを飛散させ上記カバ-部材内面にゲッタ膜を形成し、真空槽内を二次排気しながら、上記第1部材の所定領域に向けてゲッタを飛散させ、上記第1部材の所定領域にゲッタ膜を形成し、上記ゲッタ膜の形成後、上記第1部材および第2部材を互いに接合することを特徴とする真空外囲器の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 9/39 A
, H01J 9/40 A
