特許
J-GLOBAL ID：200903036397889025
X線投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-213789
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063923
出願日： 1995年08月22日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【課題】 作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供すること、好ましくはスループットを低下させないで、作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク1上に照射する照明光学系、及び該マスク1からのX線9aを受けて該マスク1上に形成されたパターンをウエハ3上に投影結像する投影結像光学系2を備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系2から前記ウエハ3に向かうX線9bの光路を必要に応じて変更する光路変更機構4、該光路変更機構4により光路が変更されたX線9cを受けて該X線9cの収差を測定する収差測定機構5、及び該収差を補正する収差補正機構6、7、8を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
請求項（抜粋）：
少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク上に照射する照明光学系、及び該マスクからのX線を受けて該マスク上に形成されたパターンをウエハ上に投影結像する投影結像光学系を備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系から前記ウエハに向かうX線の光路を必要に応じて変更する光路変更機構、該光路変更機構により光路が変更されたX線を受けて該X線の収差を測定する収差測定機構、及び該収差を補正する収差補正機構を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 A
, G21K 5/02 X
