対向ターゲット式スパッタ装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：尾身祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-203322
公開番号（公開出願番号）：特開平10-046330
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】投入電力を大きくしても膜質低下のない工業生産に適した対向ターゲット式スパッタ装置。【解決手段】真空槽内に所定の間隔を隔てて一対のターゲットを対向配置し、該ターゲットの外周に沿ってその外側に永久磁石からなる磁界発生手段を設けて該ターゲット間の対向空間を囲むようにプラズマ捕捉用磁界を形成して、該対向空間内にスパッタプラズマを生成し、該対向空間の測方に配置した基板上に薄膜形成するようにした対向ターゲット式スパッタ装置において、該ターゲット及びその支持部を囲むようにその外周に沿って真空槽壁面から槽内側に突き出した、槽外から出し入れする槽内と遮断された収納部を設け、該収納部に磁界発生手段の永久磁石を収納したことを特徴とする対向ターゲット式スパッタ装置。

請求項（抜粋）：

真空槽内に所定の間隔を隔てて一対のターゲットを対向配置し、該ターゲットの外周に沿ってその外側に永久磁石からなる磁界発生手段を設けて該ターゲット間の対向空間を囲むようにプラズマ捕捉用磁界を形成して、該対向空間内にスパッタプラズマを生成し、該対向空間の測方に配置した基板上に薄膜形成するようにした対向ターゲット式スパッタ装置において、該ターゲット及びその支持部を囲むようにその外周に沿って真空槽壁面から槽内側へ突き出した、槽外から出し入れする槽内と遮断された収納部を設け、該収納部に磁界発生手段の永久磁石を収納したことを特徴とする対向ターゲット式スパッタ装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , C23C 14/35

FI (2件)：

C23C 14/34 D , C23C 14/35 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-056667
特開平1-263272
相変化型光ディスク及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-118265 出願人：帝人株式会社

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