特許
J-GLOBAL ID：200903036408953324
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯塚 雄二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-111991
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283421
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 マスクと感光基板の焦点位置の計測を高精度で行い得る投影露光装置を提供すること。【解決手段】 マスク(12)上に形成されたフォーカス計測用のマーク(100)と;ステージ(3)上に形成され、投影光学系(11)を介して照明される露光光を透過する開口部(38)と;開口部(38)とマーク(100)の投影光学系(11)を介した像とを相対走査する走査手段(2)と;ステージ(3)を投影光学系(11)の光軸方向に移動させる移動手段とを備える。そして、相対走査及びステージ(3)の光軸方向への移動によって生じる、開口部(38)を透過する光の光量変化に基づき、検出手段(24,26)によって、投影光学系(11)の焦点位置を検出する。
請求項（抜粋）：
露光用の光を所定パターンが形成されたマスクに照明する照明系と、前記マスク上のパターンの像をステージ上に配置された感光基板に投影転写する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記マスク上に形成されたフォーカス計測用のマークと;前記ステージ上に形成され、前記投影光学系を介して照明される前記露光光を透過する開口部と;前記開口部と前記マークの前記投影光学系を介した像とを相対走査する走査手段と;前記ステージを前記投影光学系の光軸方向に移動させる移動手段と;前記相対走査及び前記ステージの前記光軸方向への移動によって生じる、前記開口部を透過する光の光量変化に基づいて前記投影光学系の焦点位置を検出する検出手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
