特許
J-GLOBAL ID：200903036418118423
薄膜磁気ヘッドのデプス研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-051605
公開番号（公開出願番号）：特開平7-262521
出願日： 1994年03月23日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 ギャップデプスを高精度に制御可能となし、電磁変換特性及び歩留りの大幅な向上が図れる生産性に優れた薄膜磁気ヘッドを製造可能となす。【構成】 ウエハーより切り出したブロック2,3の媒体対向面となる面を回転する定盤1に押し付けて各薄膜磁気ヘッド素子のギャップデプスを所定値となるように研磨するに際し、該定盤1の研磨面1aを曲面とする。
請求項（抜粋）：
ウエハー上に真空薄膜形成手段によって複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成した後、該ウエハーより長手方向に各薄膜磁気ヘッド素子が並ぶように短冊状にブロック切断し、そのブロックの媒体対向面となる面を回転する定盤に押し付けて各薄膜磁気ヘッド素子のギャップデプスを所定値となるように研磨するに際し、該定盤の研磨面を曲面とすることを特徴とする薄膜磁気ヘッドのデプス研磨方法。
IPC (2件)：
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