特許
J-GLOBAL ID:200903036441396821
低刺激性抗菌化粧料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-360161
公開番号(公開出願番号):特開2001-172159
出願日: 1999年12月20日
公開日(公表日): 2001年06月26日
要約:
【要約】【解決手段】 抗菌剤として1-ヒドロキシ-2-ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリチオンから選ばれる1種又は2種以上を含有する抗菌化粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・フォルスコリイから選ばれる1種又は2種以上のシソ科植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性抗菌化粧料。【効果】 本発明の低刺激性抗菌化粧料は、殺菌効果に優れ、かつ皮膚・粘膜刺激性がほとんどなく安全性も高いもので、頭髪用、皮膚用化粧料等として各種剤型に調製して幅広く利用できる。
請求項(抜粋):
抗菌剤として1-ヒドロキシ-2-ピリドン系化合物及びその塩、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、イソプロピルメチルフェノール、ヒノキチオール、トリクロロカルバニリド並びにジンクピリチオンから選ばれる1種又は2種以上を含有する抗菌化粧料に、シソ、ラベンダー、ヒキオコシ、マンネンロウ、メリッサ、オドリコソウ、タンジン及びコレウス・フォルスコリイから選ばれる1種又は2種以上のシソ科植物の溶媒抽出物を配合したことを特徴とする低刺激性抗菌化粧料。
IPC (3件):
A61K 7/48
, A61K 7/00
, A61K 7/06
FI (5件):
A61K 7/48
, A61K 7/00 C
, A61K 7/00 D
, A61K 7/00 K
, A61K 7/06
Fターム (45件):
4C083AA111
, 4C083AA112
, 4C083AB312
, 4C083AB352
, 4C083AC012
, 4C083AC072
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC182
, 4C083AC242
, 4C083AC302
, 4C083AC352
, 4C083AC372
, 4C083AC392
, 4C083AC422
, 4C083AC442
, 4C083AC471
, 4C083AC472
, 4C083AC532
, 4C083AC642
, 4C083AC691
, 4C083AC782
, 4C083AC792
, 4C083AC811
, 4C083AC841
, 4C083AC851
, 4C083AC852
, 4C083AC931
, 4C083AD042
, 4C083AD132
, 4C083AD152
, 4C083AD192
, 4C083AD262
, 4C083AD532
, 4C083AD662
, 4C083BB51
, 4C083BB53
, 4C083CC01
, 4C083CC05
, 4C083CC25
, 4C083CC37
, 4C083CC38
, 4C083EE10
, 4C083EE12
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