特許
J-GLOBAL ID:200903036446531166

基板表面の有機物汚染の評価装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金本 哲男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-171373
公開番号(公開出願番号):特開平8-338822
出願日: 1995年06月13日
公開日(公表日): 1996年12月24日
要約:
【要約】【目的】 雰囲気由来の基板表面の有機物汚染を簡便に評価する。【構成】 本発明では、表面に絶縁層が形成された基板104に電極106を密着させて同じ相対湿度雰囲気の下でその表面抵抗率(R)を経時的に測定するか、あるいは基板206の表面に滴下された液滴207の接触角(α)を経時的に測定する。そして、洗浄直後の基板に対する測定値と所定時間評価対象雰囲気に曝した後の基板に対する測定値とを比較することにより、雰囲気由来の基板表面の有機物汚染を評価することができる。
請求項(抜粋):
雰囲気由来の基板表面の有機物汚染を評価するための評価装置であって、少なくとも表面が絶縁性の基板と、その基板表面上の少なくとも2点間の電気抵抗値を測定する表面抵抗率計と、前記基板を収容する隔離空間と、その隔離空間内に実質的に一定の相対湿度を有する調湿ガスを導入する調湿ガス導入手段と、その隔離空間内に評価対象となる気体を導入する評価対象気体導入手段と、前記表面抵抗率計により測定された表面抵抗率に応じて基板表面の有機物汚染を評価する評価手段を備えたことを特徴とする、基板表面の有機物汚染の評価装置。
IPC (5件):
G01N 27/04 ,  F24F 7/00 ,  G01B 11/00 ,  G01N 13/00 ,  G01R 27/02
FI (5件):
G01N 27/04 Z ,  F24F 7/00 ,  G01B 11/00 ,  G01N 13/00 ,  G01R 27/02 R
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-031740
  • 特開昭60-157035
  • 特開平4-314348

前のページに戻る