特許

J-GLOBAL ID：200903036450971618

ポジ型レジスト組成物

発明者： 西山 文之 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-287392
公開番号（公開出願番号）：特開2004-126014
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】本発明は、ショートニング性能に優れ、プロセスマージン性能が優れ、遠紫外光、特にArFエキシマレーザー光を使用するミクロファブリケーションに好適に使用できるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、特定の2つの繰り返し単位をもつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のトリアルキルスルホニウム化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(Ia)で表される繰り返し単位と一般式(Ib)で表される繰り返し単位とを含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)一般式(II)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08F220/12 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F220/12 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC01Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC15P ,  4J100CA04 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38