特許

J-GLOBAL ID：200903036452175720

蒸着薄膜の作製法

発明者： 渡部 行男
出願人/特許権者： 三菱化成株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-127495
公開番号（公開出願番号）：特開平5-320882
出願日： 1992年05月20日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【構成】 基板上にセラミック化合物薄膜を蒸着により作製する方法において、目的とするセラミック化合物薄膜を構成する金属の少なくとも一つからなるターゲットに短パルス状のエネルギービームを照射して薄膜を堆積させる際、雰囲気ガスとして該セラミック化合物の構成元素を含有するガスと負イオン生成エネルギーが正であるガスとの混合ガスを用いることを特徴とする蒸着薄膜の作製法。【効果】簡便にセラミック化合物の構成元素を含有するガスを活性化することにより、蒸着薄膜に気体構成元素を取り込み易くして、セラミック化合物蒸着薄膜の特性を向上することができる。

請求項（抜粋）：

基板上にセラミック化合物の薄膜を蒸着により作製する方法において、目的とするセラミック化合物薄膜を構成する金属の少なくとも一つからなるターゲットに短パルス状のエネルギービームを照射してセラミック化合物薄膜を堆積させる際、雰囲気ガスとして該セラミック化合物を構成する元素を含有するガスと負イオン生成エネルギーが正であるガスとの混合ガスを用いることを特徴とする蒸着薄膜の作製法。

IPC (6件)：

C23C 14/28 ,  C01B 13/14 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C30B 25/06 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H01L 39/24 ZAA