特許
J-GLOBAL ID:200903036461951350

感放射線性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大島 正孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-362868
公開番号(公開出願番号):特開2000-241980
出願日: 1999年12月21日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】 各種の放射線に有効に感応し、解像度およびパターン形状が優れ、かつ膜面荒れも小さく、さらに光近接効果が小さく、ライン・アンド・スペースパターン、孤立パターン、コンタクトホールパターンのいずれについても、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 p-ヒドロキシスチレン類の重合単位とp-シクロヘキシルオキシメチルオキシスチレン類の重合単位を含有する重合体、およびp-ヒドロキシスチレン類の重合単位とp-t-ブトキシカルボニルオキシスチレン類の重合単位を含有する重合体並びに感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性組成物。
請求項(抜粋):
(A)下記式(1)【化1】(式中、R1は水素原子またはメチル基を示す。)で表される繰返し単位と下記式(2)【化2】(式中、R1の定義は上記に同じであり、R2は水素原子またはメチル基を示し、R3はメチル基またはエチル基を示す。)で表される繰返し単位を含む共重合体、(B)上記式(1)で表される繰返し単位と下記式(3)【化3】(式中、R1の定義は上記に同じである)で表される繰返し単位を含む共重合体、並びに(C)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。
IPC (2件):
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2件):
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (6件)
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