特許

J-GLOBAL ID：200903036469142230

ポジ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-268267
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160877
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液(例えば2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)に対しても良好な現像性を示すポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)主鎖に脂環式基を有し、且つカルボキシル基を有するポリシクロオレフィン樹脂、及び(C)特定の構造の基を少なくとも2個有する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)主鎖に脂環式基を有し、且つカルボキシル基を有するポリシクロオレフィン樹脂、及び(C)下記一般式(I)で表される基を少なくとも2個有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)中、R1 〜R3 は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。またR1 〜R3 の内の2つが結合して3〜8個の炭素原子あるいはヘテロ原子から成る環構造を形成してもよい。Zは-O-、-S-、-SO2-又は-NH-基を示す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R