特許

J-GLOBAL ID：200903036481300975

真空蒸着装置

発明者： 谷口 彬雄 ,  高橋 哲也 ,  柳 雄二
出願人/特許権者： トッキ株式会社 ,  谷口 彬雄
代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119116
公開番号（公開出願番号）：特開2002-317263
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：

【要約】【課題】 基板とマスクの優れた密着性が得られ、薄膜の形状を精度良く設定できる真空蒸着装置を提供すること。【解決手段】 真空系に接続された真空容器の内部に、蒸発源容器と基板ホルダとを、水平方向に沿って互いに対面させ、かつ該基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面を上向きに傾斜した状態に配置させてなる真空蒸着装置。

請求項（抜粋）：

真空系に接続された真空容器の内部に、蒸発源容器と基板ホルダとを、水平方向に沿って互いに対面させ、かつ該基板ホルダの蒸発源容器に対面する側の表面を上向きに傾斜した状態に配置させてなる真空蒸着装置。

IPC (4件)：

C23C 14/24 ,  H01L 21/363 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

C23C 14/24 T ,  H01L 21/363 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (25件)：

3K007AB00 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CA05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB12 ,  4K029DB18 ,  4K029HA01 ,  4K029JA01 ,  5F103AA01 ,  5F103BB16 ,  5F103DD25 ,  5F103PP18 ,  5F103RR10

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭56-029669
  
• 特公昭52-032758
  
• 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-244244   出願人：ティーディーケイ株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-029669
  
• 特公昭52-032758
  
• 有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-244244   出願人：ティーディーケイ株式会社