特許
J-GLOBAL ID：200903036489401614
投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-069446
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234850
出願日： 1992年02月18日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】 多重焦点系を構成し、焦点深度を増加させて高解像度の投影パターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 照明系1からの光束で第1物体面2上の回路パターンを照明し、該第1物体面上の回路パターンを投影光学系3で第2物体面5上に投影露光する際、該第1物体と第2物体との間の光路中に光学軸を互いに直交させた2つの結晶光学素子4を配置すると共に該投影光学系の瞳面近傍に十字状の開口を有する絞り7をその開口方向が該結晶光学素子の光学軸方向に向くように配置したこと。
請求項（抜粋）：
照明系からの光束で第1物体面上の回路パターンを照明し、該第1物体面上の回路パターンを投影光学系で第2物体面上に投影露光する際、該第1物体と第2物体との間の光路中に光学軸を互いに直交させた2つの結晶光学素子を配置すると共に、該投影光学系の瞳面近傍に十字状の開口を有する絞りをその開口方向が該結晶光学素子の光学軸方向に向くように配置したことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
