特許

J-GLOBAL ID：200903036505840437

導電膜および導電膜の製造方法

発明者： 大久保 透 ,  亀島 久光
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-060116
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151363
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：

【要約】【課題】湿式導電膜において、低温プロセスで高い導電性を示す導電膜およびその製造方法を提供する。また、従来技術である金属メッシュを用いた導電膜の視認性の悪さなどを改善し、高い導電性と透明性を有しかつ視認性に優れた導電膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】 少なくともパターン形成された金属微粒子保持部を有する金属微粒子保持層を具備し、かつ該金属微粒子保持部には、保持された金属微粒子を含む金属微粒子層を有しており、前記金属微粒子層を形成する該金属微粒子のうち隣接するもの同士が金属架橋剤を介して架橋されていることを特徴とする導電膜およびその製造方法である。

請求項（抜粋）：

少なくともパターン形成された金属微粒子保持部を有する金属微粒子保持層を具備し、かつ該金属微粒子保持部に保持された金属微粒子を含む金属微粒子層を有しており、前記金属微粒子層を形成する該金属微粒子のうち隣接するもの同士が金属架橋剤を介して架橋されていることを特徴とする導電膜。

IPC (4件)：

H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503 ,  H01B 13/00 ,  H01L 21/288

FI (5件)：

H01B 5/14 A ,  H01B 5/14 B ,  H01B 13/00 503 B ,  H01B 13/00 503 D ,  H01L 21/288 Z

Fターム (22件)：

4M104AA10 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104CC01 ,  4M104DD22 ,  4M104DD28 ,  4M104DD51 ,  4M104DD71 ,  4M104DD78 ,  4M104GG20 ,  4M104HH14 ,  4M104HH16 ,  4M104HH20 ,  5G307FA01 ,  5G307FB02 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA01 ,  5G323BA05 ,  5G323BB01 ,  5G323BC03 ,  5G323CA05