特許

J-GLOBAL ID：200903036523723367

マーキング方法、マーキングしたマークの除去方法、並びにマークを利用した加工方法及び被加工物

発明者： 饗場 利明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-269766
公開番号（公開出願番号）：特開2000-097823
出願日： 1998年09月24日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 試料をエッチング(あるいは破壊)しないでマークを形成することが可能で、使用後に除去可能なマークを形成することが可能で、且つ試料の表裏の両面から容易に見えるマークを形成することが可能なマーキング方法の提供。【解決手段】 ガス雰囲気中において集束させたイオンビームを試料上に照射することにより、試料上に形成された堆積物をマークとして使用するマーキング方法、このマーキング方法によって形成されたマーク上に、集束させたイオンビームを照射することによって、該マークをエッチングして除去するマーキングしたマークの除去方法、及びこのマーキング方法によってマークを形成後、試料の表裏に微細加工を施すマークを利用した加工方法。

請求項（抜粋）：

ガス雰囲気中において集束させたイオンビームを試料上に照射することにより、試料上に形成された堆積物をマークとして使用することを特徴とするマーキング方法。

IPC (6件)：

G01N 1/28 ,  B41M 5/00 ,  G01N 1/32 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/66 ,  G01N 23/225

FI (8件)：

G01N 1/28 H ,  B41M 5/00 Z ,  G01N 1/32 B ,  H01L 21/02 A ,  H01L 21/66 A ,  G01N 23/225 ,  G01N 1/28 F ,  G01N 1/28 G

Fターム (25件)：

2G001AA05 ,  2G001AA09 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA18 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA07 ,  2G001RA03 ,  2G001RA04 ,  2G001RA06 ,  2G001RA20 ,  2H086AA11 ,  2H086AA21 ,  2H086AA41 ,  4M106AA01 ,  4M106BA03 ,  4M106DA09 ,  4M106DA20