特許
J-GLOBAL ID:200903036527592640
温室制御システムおよび温室制御方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-422718
公開番号(公開出願番号):特開2005-176721
出願日: 2003年12月19日
公開日(公表日): 2005年07月07日
要約:
【課題】温室内の栽培環境を良好な状態に保つ。【解決手段】温室内外の温度や温室内外の相対湿度などから換気速度を算出する。算出した換気速度から温室内床面積当たりの潜在追加蒸発散速度を求め、この潜在追加蒸発散速度を温室内床面積当たりの必要細霧発生速度とし、この温室内床面積当たりの細霧発生速度に床面積を乗じることにより温室当たりの必要細霧発生速度を求める。求めた必要細霧発生速度と細霧発生周期(Pfb(s))とから細霧発生時間(Pf(s))を算出する。もしくは、必要細霧発生速度から細霧発生ポンプの必要吐出圧力を算出する。細霧発生中、温室内が高湿度状態(例えば、相対湿度が90%以上)となると、温室への細霧の発生を停止する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
換気口を有する温室へ細霧を供給し、この細霧が気化する際に奪う熱を利用して前記温室内の冷房を行う温室制御システムにおいて、
前記温室の内外の環境に基づいて前記換気口からの換気の速度を算出する換気速度算出手段と、
この換気速度算出手段によって算出された換気速度に基づいて前記温室への細霧の供給速度を制御する細霧供給速度制御手段と
を備えたことを特徴とする温室制御システム。
IPC (1件):
FI (2件):
Fターム (5件):
2B029MA08
, 2B029PA03
, 2B029SE04
, 2B029SF08
, 2B029TA01
引用特許:
前のページに戻る