特許
J-GLOBAL ID：200903036529011512

界面計測装置及び界面計測方法

発明者：
廣瀬 修

廣瀬 修 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-140457
公開番号（公開出願番号）：特開2000-329608
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】 外乱が生じていたとしても精度良く界面の計測を行なうことのできる界面計測装置及び界面計測方法を提供する。【解決手段】 計測される界面を含む原画像を予め設定したサンプリング間隔にて取得するための画像取得手段3と、取得された原画像を解析して界面位置を求める画像解析手段40とを備えた界面計測装置において、画像解析手段40は、現在の原画像と過去の原画像との差分画像を求める差分演算部40bと、この差分画像に基づいて原画像の変化分を抽出した抽出画像を求める変化分抽出部40eと、この抽出画像に基づいて界面位置を決定する界面位置決定部40fとを備えていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
計測される界面を含む原画像を予め設定したサンプリング間隔にて取得するための画像取得手段と、取得された原画像を解析して界面位置を求める画像解析手段とを備えた界面計測装置において、前記画像解析手段は、現在の原画像と過去の原画像との差分画像を求める差分演算部と、この差分画像に基づいて原画像の変化分を抽出した抽出画像を求める変化分抽出部と、この抽出画像に基づいて界面位置を決定する界面位置決定部とを備えていることを特徴とする界面計測装置。
IPC (3件)：
G01F 23/28 ,  G06T 1/00 ,  G06T 9/20
FI (3件)：
G01F 23/28 L ,  G06F 15/62 380 ,  G06F 15/70 335 A
Fターム (19件)：
2F014FA04 ,  5B057CE05 ,  5B057DA07 ,  5B057DA16 ,  5B057DB02 ,  5B057DC23 ,  5B057DC32 ,  5L096BA02 ,  5L096CA04 ,  5L096DA05 ,  5L096EA06 ,  5L096FA37 ,  5L096FA69 ,  5L096GA08 ,  5L096GA51 ,  5L096JA11 ,  9A001BB06 ,  9A001HZ23 ,  9A001KK37
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)

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