特許

J-GLOBAL ID：200903036536411143

静電吸着装置とその製造方法、ウエハ処理方法

発明者： 菅野 誠一郎 ,  妻木 伸夫 ,  臼井 建人 ,  橘内 浩之 ,  吉岡 健 ,  高橋 主人 ,  金井 三郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高崎 芳紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-285937
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129716
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】 プラズマの有無に係らずスイッチのオン/オフによってウエハの吸着脱離を行なうことができ、均一なエッチング処理を行なうことができる静電吸着装置を提供することである。【解決手段】 外径がリング状電極17の外径の70パーセント以上ある内電極16を、互いに電気的に絶縁された状態で同心円状に配置し、この表面に表面が平坦な誘電膜15を形成する。そして、これら内電極とリング状電極間に電位差を印加する。【効果】 エッチング装置において、プラズマの有無に係らずウエハの吸着脱離を行なうことができ、しかも均一なエッチングを行なうことができる静電吸着装置を提供できる。

請求項（抜粋）：

互いに電気的に絶縁された状態で同心円状に配置された内電極とリング状電極、上記内電極および上記リング状電極に付けられた表面が平坦な誘電膜、上記内電極とリング状電極間に上記誘電膜上の物質を静電的に吸着保持するのに十分な電位差を与える手段を含み、上記内電極の外径が上記リング状電極の外径の70パーセント以上であることを特徴とする静電吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H02N 13/00

FI (4件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/68 A ,  B23Q 3/15 D ,  H02N 13/00 D