特許
J-GLOBAL ID：200903036563310723
排ガス洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010513
公開番号（公開出願番号）：特開平5-200221
出願日： 1992年01月24日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：
【要約】【目的】 排ガス洗浄装置に係り,特に漏れ棚式排ガス洗浄装置に関し,エリミネータの使用寿命を長くして,交換時期を遅らすことを目的とする。【構成】 下部に水溜め1,中部に漏れ棚2,上部にエリミネータ3を備えた洗浄塔4と, 洗浄塔4内に漏れ棚2の下部から排ガスを供給する排ガス供給機構5, 5a, 5bと, 排ガスの静圧を測定する静圧計6と, 水溜め1から水を汲み上げて漏れ棚2の上部から水を散布し,漏れ棚2から漏れた水が水溜め1に溜まるように水を循環させる水循環機構7, 7a〜7cと, 静圧計6と連動して排ガスの静圧が予め設定された値に達した時弁9を開いて洗浄塔4内に殺菌用ガスを供給する殺菌用ガス供給機構8, 8a, 9とを有する排ガス洗浄装置により構成する。
請求項（抜粋）：
下部に水溜め(1) , 中部に漏れ棚(2) , 上部にエリミネータ(3) を備えた洗浄塔(4) と, 該洗浄塔(4) 内に該漏れ棚(2) の下部から排ガスを供給する排ガス供給機構(5, 5a, 5b) と, 該水溜め(1) から水を汲み上げて該漏れ棚(2) の上部から水を散布し,該漏れ棚(2) から漏れた水が該水溜め(1) に溜まるように水を循環させる水循環機構(7, 7a〜7c) と, 該洗浄塔(4) 内に殺菌用ガスを供給する殺菌用ガス供給機構(8, 8a) を有することを特徴とする排ガス洗浄装置。
IPC (5件)：
B01D 47/06
, A61L 2/20
, B01D 50/00
, B01D 53/18
, B01D 53/34
