特許

J-GLOBAL ID：200903036567061582

スパッタ中性粒子質量分析方法

発明者： 林 俊一
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 矢葺 知之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-083432
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294459
出願日： 1994年04月21日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、飛行時間型二次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)とレーザを組み合わせたレーザポストイオン化TOF-SNMSで、高い検出効率を保持したまま全被測定元素を高感度かつ再現性の高い深さ方向分析方法を提供する。【構成】 レーザポストイオン化TOF-SNMSによる深さ方向分析でパルスイオンビームとパルスレーザには被測定元素毎にそれぞれ最適な同期条件が存在する。被測定元素それぞれの最適な同期条件で測定を行ない、特定深さにおける積算信号強度を得る。イオンビームをパルスから連続に切り換え、試料をエッチングし、特定深さにおける信号強度を検出し、これを繰り返して深さ方向分析を実現する。

請求項（抜粋）：

試料表面にパルスイオンビームを照射し、発生した粒子の中の中性粒子を、特定の被測定元素に対応した特定のイオンビームとの時間間隔Δt1 を置いてパルスレーザビームを照射してイオン化して質量分析を行ない、上記操作を他の被測定元素についてΔt2 で行ない、この操作を順次繰り返して全被測定元素についてその元素に特定の同期時間差で試料表面の測定を行なった後、連続スパッタで所定の深さをエッチングし、再び上記手順により、全被測定元素について質量分析することにより、各測定元素について所定深さ毎の定量分析を行なうことを特徴とするスパッタ中性粒子質量分析方法。