特許

J-GLOBAL ID：200903036568809343

弾性表面波装置の周波数調整方法

発明者： 門田 道雄 ,  小上 貴史
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 宮▼崎▲ 主税
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-094277
公開番号（公開出願番号）：特開2003-298375
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】 イオンビームエッチングにより周波数調整を行うにあたり、より一層高精度に周波数調整を行うことができる弾性表面波装置の周波数調整方法を提供する。【解決手段】 圧電性基板2上に少なくとも1つのインターデジタル電極3が形成されている弾性表面波フィルタ1にイオンビームエッチングにより周波数調整を行うにあたり、弾性表面波フィルタ1に照射されるイオンビームのイオン源として、Ar、N2、He及びNeからなる群から選択された少なくとも2種のガスを用い、これらのガスの流量比率を調整することによりエッチング速度を制御し、周波数を調整する、周波数調整方法。

請求項（抜粋）：

圧電性基板上に少なくとも1つのインターデジタル電極が形成されている弾性表面波装置にイオンビームエッチングにより周波数調整を行う方法であって、弾性表面波装置に照射されるイオンビームのイオン源として、Ar、N2、He及びNeからなる群から選択された少なくとも2種のガスを用い、これらのガスの流量比率を調整することによりエッチング速度を制御することを特徴とする、弾性表面波装置の周波数調整方法。

IPC (2件)：

H03H 3/10 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H03H 3/10 ,  H01L 21/302 103

Fターム (25件)：

5F004AA03 ,  5F004BA11 ,  5F004BD05 ,  5F004CA02 ,  5F004CB15 ,  5F004CB20 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA30 ,  5F004DB00 ,  5F004DB13 ,  5J097AA01 ,  5J097AA28 ,  5J097DD29 ,  5J097FF01 ,  5J097FF03 ,  5J097GG02 ,  5J097GG03 ,  5J097GG04 ,  5J097HA02 ,  5J097HA03 ,  5J097HB03 ,  5J097KK01 ,  5J097KK09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 表面波素子の製造方法及び表面波装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-122507   出願人：株式会社村田製作所
• リチウム系圧電体基板を有するSAWデバイスの製造方法および製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-078903   出願人：東洋通信機株式会社
• 弾性表面波装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-134917   出願人：株式会社村田製作所
• 特開平2-082620