特許

J-GLOBAL ID：200903036579424001

レーザーシャッタ機構及び画像形成装置及び画像形成システム

発明者： 杉浦 義則 ,  石川 典良 ,  世取山 武 ,  天白 千歳 ,  濱田 達雄 ,  槌谷 美郎 ,  久保田 剛 ,  室岡 謙 ,  新村 健 ,  安達 信和 ,  黒田 明 ,  杉田 壮志 ,  遊坐 曜 ,  吾妻 純 ,  野村 義矢
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123222
公開番号（公開出願番号）：特開平6-312530
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：

【要約】【目的】 シャッタを指等によって不用意に開いてしまうことがなく、またカートリッジが多少斜めに装着されても的確にアクチュエータを動作させることが可能なレーザーシャッタ機構及びその画像形成装置及び画像形成システムを提供する。【構成】 レーザー光を発射するレーザー光発射手段と、前記レーザー光発射手段から発射されるレーザー光の光路を遮る閉鎖位置と、前記閉鎖位置から退避して前記レーザー光の光路を開放する開放位置とを取り得るレーザーシャッタと、プロセスカートリッジと当接して、前記レーザーシャッタを前記閉鎖位置から前記開放位置へ変位させるアクチュエータと、前記アクチュエータの保護と、前記アクチュエータへの前記プロセスカートリッジのガイドとを兼ねる保護ガイド部材と、を設けてレーザーシャッタ機構を構成したことを特徴とする

請求項（抜粋）：

レーザーシャッタ機構において、レーザー光を発射するレーザー光発射手段と、前記レーザー光発射手段から発射されるレーザー光の光路を遮る閉鎖位置と、前記閉鎖位置から退避して前記レーザー光の光路を開放する開放位置とを取り得るレーザーシャッタと、プロセスカートリッジと当接して、前記レーザーシャッタを前記閉鎖位置から前記開放位置へ変位させるアクチュエータと、前記アクチュエータの保護と、前記アクチュエータへの前記プロセスカートリッジのガイドとを兼ねる保護ガイド部材と、を有することを特徴とするレーザーシャッタ機構。

IPC (3件)：

B41J 2/44 ,  G02B 26/10 ,  G03G 15/00 103