特許
J-GLOBAL ID：200903036584307293
電子源および電子ビーム描画方法および描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-081283
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297094
出願日： 1994年04月20日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【構成】配列電子源1から放射された描画パターン形状の電子ビーム2は投影レンズ4で投影され、偏向器3によって位置を決定して試料5上に転写される。描画されるパターンは、制御計算機6から配列電子源1で描画可能な範囲だけが切り出され、パターンデータ記憶装置7に蓄えられる。このパターンデータに対して放射量の計算および近接効果補正演算を演算装置8で行い、この内容に従って配列電子源制御装置9が配列電子源1を制御する。【効果】格子状に配列した複数の電子源の像を試料上に転写し描画を行う電子ビーム描画装置において、近接効果を低減し、高精度な描画を行うことができる。
請求項（抜粋）：
複数の電子源を格子状に配列して各電子源の電子放射を制御することにより任意形状の断面を持つ電子ビームを放射させることが可能な配列状の電子源において、各電子源毎に電子放射量を制御可能な制御装置をもつことを特徴とする配列状の電子源。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G21K 5/04
, H01J 37/06
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 W
, H01L 21/30 541 B
