表面処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山道夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-184396
公開番号（公開出願番号）：特開平6-000684
出願日： 1992年06月18日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：

【要約】【目的】レーザによる表面処理方法では、レーザ照射領域近傍に飛散した物質が材料に付着するため、レーザ処理後に除去する必要がある。従来の付着物除去の方法である有機溶剤による洗浄の欠点を解消し、レーザアブレーションにより生じるアブレーション対象物表面の付着物をなくし、対象物表面をアブレーション処理前の状態にしておくこと。【構成】 PGA1を溶液4の中に浸し、溶液4を流す。溶液4は、エキシマレーザ5が透過する窓3cを設けた容器3の中に注入口3aから注入され、排出口3bから排出され、容器3内を循環する。エキシマレーザ5は、窓3cを透過した後、溶液4中を通過しPGA1表面に到達し、アブレーションを行う。アブレーションにより発生した飛散物2は溶液4中に溶解する。

請求項（抜粋）：