特許

J-GLOBAL ID：200903036616451715

ポジ型レジスト組成物

発明者： 安波 昭一郎 ,  西山 文之 ,  百田 淳 ,  川村 浩一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110792
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057827
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマーおよび特定のスルホンイミド構造を含む化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(B)アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となるポリマー及び(C)下記一般式(1)で表される分子内にスルホンイミド構造を含む化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表す。)

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20