特許
J-GLOBAL ID:200903036620489646
ショットキーダイオード、pn接合ダイオード、pin接合ダイオード、および製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-060364
公開番号(公開出願番号):特開2002-261295
出願日: 2001年03月05日
公開日(公表日): 2002年09月13日
要約:
【要約】【課題】 リーク電流の増加を招くことがなく、安定した動作を確実に実現することを可能にするとともに、大面積化においても歩留まりが高い、炭化珪素を用いた高耐圧ダイオードを提供すること。【解決手段】 本発明は、4H型のSiC半導体13にショットキー電極15が接合されてなるショットキーダイオード10において、ショットキー電極15と接するSiC半導体13の面方位が、{03-38}面、またはこの面から10°以内のオフ角を有する面であることを特徴としている。
請求項(抜粋):
4H型のSiC半導体にショットキー電極が接合されてなるショットキーダイオードにおいて、前記ショットキー電極と接する前記SiC半導体の面方位が、{03-38}面、またはこの面から10°以内のオフ角を有する面であることを特徴とするショットキーダイオード。
IPC (3件):
H01L 29/861
, H01L 21/205
, H01L 29/872
FI (5件):
H01L 21/205
, H01L 29/91 F
, H01L 29/48 D
, H01L 29/48 F
, H01L 29/91 D
Fターム (21件):
4M104AA03
, 4M104BB05
, 4M104BB14
, 4M104CC01
, 4M104CC03
, 4M104DD26
, 4M104DD34
, 4M104DD79
, 4M104FF13
, 4M104FF35
, 4M104GG02
, 4M104GG03
, 4M104HH20
, 5F045AB06
, 5F045AC01
, 5F045AF02
, 5F045AF13
, 5F045BB12
, 5F045BB16
, 5F045DA53
, 5F045DA61
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