特許
J-GLOBAL ID:200903036624805399
ターゲット保持装置およびターゲット保持方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-170049
公開番号(公開出願番号):特開2008-001920
出願日: 2006年06月20日
公開日(公表日): 2008年01月10日
要約:
【課題】ターゲットへの熱の伝播を抑止し、かつ、ターゲットホルダからターゲットへの材料の溶出を防止する。【解決手段】レーザアブレーションを行う際、レーザビームの標的試料となるターゲット12を保持するターゲット保持部2と、該ターゲット保持部2に連結され、回転移動機構によって回転または直線移動するホルダ支持部3と、を備えたターゲット保持装置1であって、前記ターゲット保持部は2、前記ターゲット12を収容する凹部2aと、前記ホルダ支持部を収容する第1の空洞部とを備え、前記ホルダ支持部3は、その内部に形成された第2の空洞部3aを備え、前記第2の空洞部3aに冷却媒体4を循環させ、前記ターゲット12を冷却するための冷却機構を備える。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
レーザアブレーション用の標的試料となるターゲットと、該ターゲットを固定する固定手段と、該固定手段に接続され、該ターゲットを該固定手段とともに回転せしめる回転手段と、該ターゲットを該固定手段とともに冷却する冷却手段と、
を備え、前記回転手段により該ターゲットを回転させるともに、前記冷却手段により該ターゲットを冷却することにより該ターゲット表面の高温化を抑止したことを特徴とするターゲット保持装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (3件):
4K029BA35
, 4K029CA01
, 4K029DB20
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (10件)
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レーザーアブレーション装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-075765
出願人:大阪瓦斯株式会社
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スパッタリング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-137285
出願人:松下電器産業株式会社
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クラスター銃
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-221979
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所, 日立造船株式会社, 甲子園金属株式会社
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クラスター生成方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-341406
出願人:経済産業省産業技術総合研究所長, 日立造船株式会社
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特開平4-032565
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回転陽極型X線管装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-165155
出願人:株式会社東芝
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微粒子・クラスターの捕集・堆積方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-392243
出願人:松下電器産業株式会社
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薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-405372
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所, 松下電器産業株式会社
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真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-255549
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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特開昭63-161163
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