光学的描画方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：富崎元成 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-237918
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063922
出願日： 1995年08月24日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【目的】フォトレジスト方法の精度を上げて電子ビーム描画方法を用いず装置系のコストを下げる。【構成】基板と対物レンズ26との間を焦点距離に設定し、対物レンズに光ファイバの先端から出るレーザーを入射し焦点面にレーザーを集光して描画する場合に、焦点距離fを次式で定め、精度を0.01μm以下にする。【数9】

請求項（抜粋）：

基板に対して相対的に動くレーザー光学系からレーザーを照射して前記基板の基板面に回路パターンを描画する装置を用いて回路パターンを描画する光学的描画方法であり、前記レーザー光学系を構成し前記基板に対向する対物レンズに前記レーザーを通す前にピンホールを通過させる光学的描画方法。

引用特許：

審査官引用 (6件)

レーザビーム描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-229686 出願人：エヌティエヌ株式会社
特開昭63-081420
特開昭53-076670

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