特許

J-GLOBAL ID：200903036629254048

ポジ型レジスト組成物

発明者： 中尾 元 ,  佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-088358
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294870
出願日： 2003年03月27日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】PEB(Post Exposure Bake)時間依存性の点で十分に優れた性能を有するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A-1)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(A-2)少なくとも2種の特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大しない樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶媒を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A-1)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (A-2)少なくとも一般式(I)で表わされる繰り返し単位及び一般式(II)で表わされる繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大しない樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (C)溶剤を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F7/039 ,  C08F216/12 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  C08F216/12 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  H01L21/30 502R

Fターム (33件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AE02P ,  4J100AE04P ,  4J100AE09P ,  4J100AK32Q ,  4J100AM43Q ,  4J100AM47Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38