特許
J-GLOBAL ID：200903036644801179
高分子化合物、それを用いた感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-309742
公開番号（公開出願番号）：特開平9-221526
出願日： 1996年11月20日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 遠紫外線領域の放射線を光源とするリソグラフィー工程に用いることができ、高い解像性が得られ、また熱安定性も良い感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 一般式(1)で表される高分子化合物と、露光によって酸を発生する化合物を含有する感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法。(上式において、R1、R3、R7は水素原子あるいはメチル基、R2は炭素数7〜13の有橋環式炭化水素基、R4は水素原子または炭素数1〜2の炭化水素基、R5は炭素数1〜2の炭化水素基、R6は炭素数1〜12のアルコキシル基あるいは炭素数1〜13のアシル基に置換されたあるいは無置換の炭素数1〜12の炭化水素基、x+y+z=1、xは0.1〜0.9、yは0.1〜0.7、zは0〜0.7を表す。また、高分子化合物の重量平均分子量は1000〜1000000である。)
請求項（抜粋）：
一般式(1)で表される構造を有する高分子化合物。【化1】(上式において、R1 、R3 、R7 は水素原子あるいはメチル基、R2 は炭素数7〜13の有橋環式炭化水素基、R4 は水素原子または炭素数1〜2の炭化水素基、R5 は炭素数1〜2の炭化水素基、R6 は炭素数1〜12のアルコキシ基あるいは炭素数1〜13のアシル基に置換されたあるいは無置換の炭素数1〜12の炭化水素基、x+y+z=1、xは0.1〜0.9、yは0.1〜0.7、zは0〜0.7を表す。また、高分子化合物の重量平均分子量は1000〜1000000である。)
IPC (6件)：
C08F220/28 MMB
, C08F220/06 MLR
, C08F220/18 MMC
, C09D133/14 PFY
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
C08F220/28 MMB
, C08F220/06 MLR
, C08F220/18 MMC
, C09D133/14 PFY
, G03F 7/039 501
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 569 F
