特許
J-GLOBAL ID：200903036647583458
シリカ系凝集液原料の溶解方法、シリカ系凝集液の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
丸山 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291215
公開番号（公開出願番号）：特開平7-126007
出願日： 1993年10月26日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】第1にシリカ系凝集液原料の溶解の際に、不溶解残渣が析出せず溶解当量分の凝集液が得られ、液相系に悪影響を与えることがないシリカ系凝集液原料の溶解方法、シリカ系凝集液の製造方法及び装置を提供すること。第2にコンパクトな装置でかつ粉塵の流出の問題もなく効果的にシリカ系凝集液原料中の極微小な鉄あるいは鉄酸化物を除去できるシリカ系凝集液の製造装置を提供すること。【構成】本発明の溶解方法は第1に、希硫酸の希釈水溶液を作成した後、シリカ系凝集液原料スラリーを投入する点、第2に、高濃度のシリカ系凝集液を得る点を特徴とする。本発明の製造方法はこの溶解方法を用いてシリカ溶液を製造する方法である。本発明の製造装置は、スラリー作製槽に磁石を用いる点に特徴がある。
請求項（抜粋）：
水を張ったスラリー作製槽に特定のCa塩基度を有するシリカ系凝集液原料を所定量投入後攪拌分散させて原料スラリーを作成し、かつ一定量の水を張った溶解槽に硫酸を注入して所定濃度の希硫酸を作成した後、該溶解槽内に前記原料スラリーを前記希硫酸で溶解できる溶解平衡量を投入することを特徴とするシリカ系凝集液原料の溶解方法。
IPC (4件)：
C01B 33/12
, B01D 21/01 102
, B01F 1/00
, B01J 20/10
