特許

J-GLOBAL ID：200903036656544171

磁気記録媒体の塗布方法

発明者： 鈴木 章弘 ,  柴田 徳夫 ,  高橋 伸輔
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-075859
公開番号（公開出願番号）：特開平5-237438
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：

【要約】【目的】 支持体の幅方向不均一による幅方向塗布厚み変動を抑えて、塗布厚みが均一な磁気記録媒体を安定して製造する塗布方法を提供する。【構成】 バックエッジ面6及び湾曲を持ったドクターエッジ面2に沿って連続的に走行する可撓性の支持体1の表面にスリット4の先端部から磁性塗布液を連続的に押出して該支持体表面に塗布するエクストルージョン型の塗布ヘッド10を用いた磁気記録媒体の塗布方法において、 μ:液粘度(ポイズ)、m:スリット長(mm)、d:スリットクリアランス(mm)、U:塗布速度 (m/秒)、t:塗布厚み(μm )、T:塗布部張力(kg/ 全幅)、R:ドクターエッジの曲率半径(mm)としたときに、下記式12μ(m/d3 )Ut>0.20(T/R)を満たすように塗布することを特徴とする磁気記録媒体の塗布方法。

請求項（抜粋）：

バックエッジ面及び湾曲を持ったドクターエッジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持体表面にスリット先端部から磁性塗布液を連続的に押出して該支持体表面に塗布するエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いた磁気記録媒体の塗布方法において、下式の条件を満たすように塗布することを特徴とする磁気記録媒体の塗布方法。12μ(m/d3 )Ut>0.20(T/R)ただし、μ:液粘度 (ボイズ) m:スリット長(mm)d:スリットクリアランス(mm) U:塗布速度 (m/秒)t:塗布厚み(μm ) T:塗布部張力(kg/ 全幅)R:ドクターエッジの曲率半径(mm)

IPC (4件)：

B05D 1/26 ,  B05D 5/12 ,  G11B 5/842 ,  B05C 5/02