特許

J-GLOBAL ID：200903036662834831

光励起ガス反応装置

発明者： 川澄 建一 ,  恒川 助芳 ,  小泉 浩太郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-029373
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244159
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】ガス励起槽2と反応室との間を励起光を被処理物7に照射しないように、光遮蔽構造5とする。【効果】励起光が直接被処理物に照射されないので光エネルギによる被処理物の損傷をなくすことが出来る。

請求項（抜粋）：

光源によってガスを励起する手段と励起ガスを輸送する手段と前記励起ガスと被処理物を反応せしめる手段を有し、前記光源と前記被処理物の間に光を遮る手段を設けたことを特徴とする光励起ガス反応装置。

IPC (7件)：

H01L 21/302 ,  C23C 14/22 ,  C23F 4/00 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-070750