特許
J-GLOBAL ID：200903036663008994
複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377882
公開番号（公開出願番号）：特開2002-183914
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：
【要約】【課題】 製造工程の途中にて欠陥検査のための測定を行いながら、高品質の複合型薄膜磁気ヘッドを作製する。【解決手段】 MRヘッド3とインダクティブヘッド4とが組み合わされてなる複合型薄膜磁気ヘッドを作製する際に、下層シールド5との同一形成面上に、一対の電極膜12a,12bを介してMR素子9と電気的に接続される一対の素子用リード線17a,17bと、薄膜コイル15と電気的に接続される一対のコイル用リード線18a,18bとを、この上に非磁性絶縁膜を介して形成される上層シールド兼下層コア6と重ならない位置に形成し、一対の素子用リード線17a,17b及び一対のコイル用リード線18a,18bを用いて抵抗値の測定を行いながら、MRヘッド3及びインダクティブヘッド4の各構成要素を積層形成していく。
請求項（抜粋）：
基板の一主面上に形成された非磁性絶縁膜上に、下層シールドとなる第1の軟磁性膜と上層シールドとなる第2の軟磁性膜との間に非磁性絶縁膜を介して磁気抵抗効果素子及び当該磁気抵抗効果素子の両端部に一対の電極膜が配されてなる磁気抵抗効果型の再生ヘッド部と、この再生ヘッド部上に、下層コアとなる上記第2の軟磁性膜と上層コアとなる第3の軟磁性膜との間に非磁性絶縁膜が配されることにより磁気ギャップが形成され、上記第2の軟磁性膜と上記第3の軟磁性膜との間に非磁性絶縁膜を介して薄膜コイルが配されてなるインダクティブ型の記録ヘッド部とが積層されてなる複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、上記第1の軟磁性膜との同一形成面上に、上記一対の電極膜を介して上記磁気抵抗効果素子と電気的に接続される一対の素子用リード線と、上記薄膜コイルと電気的に接続される一対のコイル用リード線とが、この上に非磁性絶縁膜を介して形成される上記第2の軟磁性膜と重ならない位置に形成されていることを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッド。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G11B 5/39
, G11B 5/31 K
, G11B 5/31 F
5D033BA31
, 5D033BA39
, 5D033BA41
, 5D033BB01
, 5D033BB22
, 5D033BB43
, 5D033CA10
, 5D034BA02
, 5D034BA08
, 5D034BB12
