特許

J-GLOBAL ID：200903036668341098

図形処理装置

発明者： 大内 光郎
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-105053
公開番号（公開出願番号）：特開平8-069537
出願日： 1987年02月13日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】【目的】 描画対象領域のクリッピング領域内に位置する部分のビットデータを描画する。【構成】 描画対象領域の各ワードアドレスをクリッピング領域を規定するワードアドレスとを比較し、また、描画すべきワードの描画対象領域における位置にもとづき、マスクパターンROMから二つのマスク情報を得、これら二つのマスク情報で指定されたビットに対し描画処理を実行する。

請求項（抜粋）：

メモリ上の各ビットにXY座標を定義し、前記メモリ上にワード単位で描画を行う図形処理装置において、描画対象部分に含まれる各ワードのワードアドレスを逐次発生する座標演算手段と、XY座標上に(X1 ,Y1 )で示される第1の点と(X2 ,Y2 )で示される第2の点(但し、X1 ≦X2 ,Y1 ≦Y2 )を対角線の端点とする矩形領域を定義し、前記第1の点を有するワードのワードアドレスおよび前記第2の点を有するワードのワードアドレスを前記座標演算手段から発生された描画すべきワードのワードアドレスと比較することにより前記描画すべきワードが前記矩形領域の内か外かあるいは前記矩形領域の境界を含んでいるかを判定する比較手段と、前記比較手段からの比較結果によって、前記描画すべきワードの中のどのビットに対し処理を行うかを指定する第1のマスク情報を生成する第1のマスク生成手段と、前記描画すべきワードの前記描画対象部分における位置に応じて前記描画すべきワードの中のどのビットに対し処理を行うかを指定する第2のマスク情報を生成する第2のマスク生成手段と、前記描画すべきワードの中の前記第1および第2のマスク情報の両方により指定されたビットに対し描画処理を行う手段とを備え、前記第1および第2のマスク情報は、マスクパターンROMを用いて生成される図形処理装置。