特許
J-GLOBAL ID：200903036671521374

ビスフェノール類の製造方法

発明者：
大東 昇

大東 昇 について

, 
吉田 潤一

吉田 潤一 について


出願人/特許権者：
新日鐵化学株式会社

新日鐵化学株式会社 について


代理人 (3件)： 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣 ,  佐野 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-188386
公開番号（公開出願番号）：特開2005-187450
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】 フェノールとホルムアルデヒドのモル比を高めることなく、生成するビスフェノールFの純度を向上させると共に、生産性を向上させる。【解決手段】 フェノール類とホルムアルデヒド類を、酸触媒の存在下に縮合反応させてビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を製造するに当り、フェノール類とホルムアルデヒド類及び酸触媒の3種を同時に含まない2つの反応原料液又は触媒液を、別個に幅1〜300μmの複数の微小流路から、混合空間に供給して、フェノール類/ホルムアルデヒド類のモル比が2〜30で、50〜170°Cで反応することからなるビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法。この微小流路及び混合空間を有する装置としては、マイクロミキサがある。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フェノール類とホルムアルデヒド類を、酸触媒の存在下に縮合反応させてビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を製造するに当り、フェノール類とホルムアルデヒド類及び酸触媒の3種を同時に含まない2つの反応原料液又は触媒液を、別個に幅1〜300μmの複数の微小流路から、混合空間に供給して反応することを特徴とするビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法。
IPC (2件)：
C07C37/20 ,  C07C39/16
FI (2件)：
C07C37/20 ,  C07C39/16
Fターム (11件)：
4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006BA52 ,  4H006BC31 ,  4H006BD21 ,  4H006BD81 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H039CA11 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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