特許
J-GLOBAL ID:200903036673357431
有機EL素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 阿部 豊隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-188323
公開番号(公開出願番号):特開2005-026003
出願日: 2003年06月30日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
【課題】有機EL素子の長寿命化及び高輝度化を実現できる製造方法を提供する。【解決手段】まず、ITOから成る電極層11を形成した基板10上にホール注入層塗布溶液を塗布して塗膜を形成し、引き続き、その塗膜上に発光層塗布溶液を塗布して塗膜を形成する。次に、この基板10を加熱槽に収容し、一定の加圧・加熱条件でそれらの塗膜を乾燥・固化させて第1有機層12及び第2有機層13を一括形成する。これにより、両有機層12,13の界面に混合層20が形成される。その後、その上にLiF及びAlを蒸着し電極層15を形成して有機EL素子1を得る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
電極間に複数の有機層を備える有機EL素子を製造する方法であって、
前記複数の有機層のうち少なくとも二つの有機層を構成するそれぞれの材料が溶媒に溶解又は分散されて成るそれぞれの溶液を基板上に連続して塗布する塗布工程と、
前記塗布により形成された少なくとも二つの塗膜を同時に加熱して前記少なくとも二つの有機層を形成せしめる加熱工程と、
を備える有機EL素子の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (6件):
3K007AB02
, 3K007AB03
, 3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
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