特許
J-GLOBAL ID:200903036678445525
カラーフィルタ及びその製造方法並びに固体撮像装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-241544
公開番号(公開出願番号):特開2009-075172
出願日: 2007年09月18日
公開日(公表日): 2009年04月09日
要約:
【課題】薄膜かつ矩形断面とし、色再現性を向上させる。【解決手段】半導体基板上に保護膜を形成する保護膜形成工程、形成された保護膜をドライエッチングにより加工して凹部を形成する凹部形成工程、及び形成された凹部にカラーフィルタ層を形成するフィルタ形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
半導体基板上に保護膜を形成する保護膜形成工程と、
形成された保護膜をドライエッチングにより加工して凹部を形成する凹部形成工程と、
形成された凹部にカラーフィルタ層を形成するフィルタ形成工程と、
を有するカラーフィルタの製造方法。
IPC (3件):
G02B 5/20
, H01L 27/14
, H04N 9/07
FI (3件):
G02B5/20 101
, H01L27/14 D
, H04N9/07 D
Fターム (23件):
2H048BA11
, 2H048BA43
, 2H048BB08
, 2H048BB10
, 2H048BB13
, 2H048BB28
, 2H048BB37
, 2H048BB46
, 4M118AB01
, 4M118BA06
, 4M118CA02
, 4M118CA32
, 4M118GB03
, 4M118GB07
, 4M118GB11
, 4M118GC07
, 4M118GC17
, 4M118GD04
, 4M118GD07
, 5C065BB42
, 5C065DD01
, 5C065DD17
, 5C065EE05
引用特許:
前のページに戻る