特許
J-GLOBAL ID:200903036686994414
レーザ描画装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野田 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-142699
公開番号(公開出願番号):特開平8-309565
出願日: 1995年05月16日
公開日(公表日): 1996年11月26日
要約:
【要約】【目的】 階調表現が可能なベクタ走査方式のレーザ描画装置を実現する。【構成】 CPU6は、RAM8に格納されている描画データに含まれる階調データより、マトリクスを構成する各画素内に描画すべき微小線分の長さを算出する。そして各画素ごとに、それぞれの画素領域内に描画する微小線分の始点を表すXアドレス・データと、Yアドレス・データを生成し、さらに、すでに求めた微小線分の長を用いて、終点を表すYアドレス・データを生成する。その後、これらのアドレス・データから位置信号を発生し、FIFO12、15に出力する。その結果、D/A変換器13、16およびアンプ14、17を通じて偏向ミラーが駆動され、記録媒体上の各画素領域内にそれぞれ微小線分が描画される。微小線分は長さが短いため各画素内にはドットが形成され、その大きさは階調データの値に対応したものとなる。
請求項(抜粋):
レーザ光源が発生したレーザビームを光偏向器によって2次元的に偏向し、記録媒体上に線分を描画して画像を形成するレーザ描画装置において、画像を形成するマトリクス状の画素それぞれの灰色度を表す階調データにもとづき、各画素ごとに微小線分の長さを決定する階調ベクタ変換手段と、この階調ベクタ変換手段が決めた前記長さの微小線分を、前記光偏向器を制御して、前記記録媒体上の各画素領域内に描画する微小線分描画手段と、を備えたことを特徴とするレーザ描画装置。
IPC (3件):
B23K 26/00
, B41J 2/52
, B41J 2/44
FI (4件):
B23K 26/00 B
, B23K 26/00 M
, B41J 3/00 A
, B41J 3/00 Q
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
特開昭64-020773
-
画像記録方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-210625
出願人:キヤノン株式会社
-
画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-202894
出願人:コニカ株式会社
前のページに戻る