特許
J-GLOBAL ID：200903036700242293
洗浄乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永田 良昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059324
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192865
出願日： 1992年02月12日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】メッキ処理後のワークを、シミやシワ等を何等発生させることなく、確実に洗浄乾燥することができ、また良好なイオン交換機能を維持し、かつ槽内への有機物発生を防止すると共に、廃水処理が不要で、さらにランニングコストの低減を図ると共に、ワークの自動搬送により大幅な省力化を図ることができ、しかも大気汚染の影響がない洗浄乾燥装置の提供を目的とする。【構成】列状に配設され、オーバフロー構造に形成された複数の洗浄槽3〜7と、下流側の洗浄槽3または5と上流の洗浄槽7とを結ぶ送液ライン10と、送液ライン10に介設されたイオン交換樹脂塔11と、イオン交換樹脂塔11の純水出口ライン18に接続された塩素含有水供給ライン25と、上流の洗浄槽7上方に配設されたエアナイフと、メッキ処理後のワークを上記下流側の洗浄槽から上流の洗浄槽へ順次搬送する搬送手段とを備え、上流の洗浄槽7における純水温度を45°C未満に設定したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
列状に配設され、オーバフロー構造に形成された複数の洗浄槽と、下流側の洗浄槽と上流の洗浄槽とを結ぶ送液ラインと、上記送液ラインに介設されたイオン交換樹脂塔と、上記イオン交換樹脂塔の純水出口ラインに接続された塩素含有水供給ラインと、上記上流の洗浄槽上方に配設されたエアナイフと、メッキ処理後のワークを上記下流側の洗浄槽から上流の洗浄槽へ順次搬送する搬送手段とを備え、上流の洗浄槽における純水温度を45°C未満に設定した洗浄乾燥装置。
IPC (3件)：
C23G 3/00
, C25D 21/20
, C25D 21/22
