特許
J-GLOBAL ID：200903036711001441
製造ライン
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 善▲廣▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-113638
公開番号（公開出願番号）：特開平6-298358
出願日： 1993年04月17日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：
【要約】【構成】 清浄環境下で複数の処理工程を要する物品の製造ラインにおいて、前記各処理工程が外部環境より隔てられた清浄な処理領域(A〜E)で夫々行われると共に、前記処理領域(A〜E)で処理された物品の搬送を、前記処理領域間に連設し外部環境より隔てられた清浄な搬送領域(a〜d)を介して行うようにしたことを特徴とする。【効果】 各処理領域間に搬送領域を連設したことにより、被処理物を外部環境に曝露することなく処理することができる。従って、従来課題とされていた被処理物の塵埃等による汚染の危険を解消することができる。
請求項（抜粋）：
清浄環境下で複数の処理工程を要する物品の製造ラインにおいて、前記各処理工程が外部環境より隔てられた清浄な処理領域で夫々行われると共に、前記処理領域で処理された物品の搬送を前記処理領域間に連設し外部環境より隔てられた清浄な搬送領域を介して行うようにしたことを特徴とする製造ライン。
IPC (4件)：
B65G 49/00
, B65G 45/10
, F24F 7/06
, B23Q 41/02
