特許
J-GLOBAL ID：200903036716217787
カソード取付構造体、カソード取付構造体を用いた薄膜形成装置および薄膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 増顕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-140584
公開番号（公開出願番号）：特開2005-320599
出願日： 2004年05月11日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】プラズマ装置やスパツタリンク装置に用いるカソード構造体において、処理時間を短縮でき、小型化が可能なカソード取付構造体を提供する。【解決手段】プラズマ装置やスパッタリング装置に用いるカソード取付構造体において、内部に空間を有し、その一方の面または両側面にプラズマ処理用電極、スパッタリングカソード、ヒータ、イオン源の少なくとも1つが取り付けられるように構成されている少なくとも1つの箱状構造体と、この箱状構造体の長尺方向の両側面のそれぞれに設けられた真空状態を維持しつつ箱状構造体を回転可能とする真空回転機構と、プラズマ装置やスパッタリング装置に一端部が取り付けられ、他端が、カソード取付構造使用時に、この箱状構造体を支持するように構成された支持部材とを設け、少なくとも一方の真空回転機構には箱状構造体の内部に放電用電源ケーブルまたは冷媒を装入排出できる開口部を有している。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
中大型のプラズマ装置やスパッタリング装置に用いるカソード取付構造体において、
内部に空間を有し、その一方の面または両側面にプラズマ処理用電極、スパッタリングカソード、ヒータ、イオン源の少なくとも1つが取り付けられるように構成されている少なくとも1つの箱状構造体と、
この箱状構造体の長尺方向の両側面のそれぞれに設けられた真空状態を維持しつつ箱状構造体を回転可能とする真空回転機構と、
プラズマ装置やスパッタリング装置に一端部が取り付けられ、他端が、カソード取付構造使用時に、この箱状構造体を支持するように構成された支持部材とを有し、
少なくとも一方の真空回転機構には箱状構造体の内部に放電用電源ケーブルまたは冷媒を装入排出できる開口部を有していることを特徴とするカソード取付構造体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
4K029AA06
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029AA25
, 4K029BA01
, 4K029BA43
, 4K029BA53
, 4K029BA55
, 4K029BA58
, 4K029BA62
, 4K029CA05
, 4K029DC16
, 4K029DE02
, 4K029FA05
, 4K029GA02
