特許
J-GLOBAL ID：200903036718773881
多層膜光フィルタ及びその製造方法とそれを用いる光学部品
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-017290
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215329
出願日： 2002年01月25日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 成膜初期の基板の温度上昇に起因する、膜厚の測定誤差の影響を極小化した、設計値からのズレがほとんどない特性を有する、多層膜光フィルタを提供する。【解決手段】 基板1上に屈折率の異なる複数の誘電体材料の薄膜が繰り返し積層された多層膜5からなる多層膜光フィルタ20において、基板1の近傍にある多層膜5の下層部に、成膜初期の基板1の温度上昇に起因する膜厚の測定誤差の影響を緩和するための、単一材料からなる、厚みが1乃至10μmの範囲の緩和層4を設けた。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板の一表面に接して設けられた、屈折率の異なる複数の誘電体材料の薄膜が繰り返し積層された多層膜とからなり、前記基板の近傍にある該多層膜の下層部に、温度の変化による膜厚の測定誤差の影響を緩和するための、単一の材料からなる緩和層を有することを特徴とする、多層膜光フィルタ。
Fターム (8件)：
2H048GA04
, 2H048GA09
, 2H048GA13
, 2H048GA33
, 2H048GA51
, 2H048GA56
, 2H048GA60
, 2H048GA62
